国家存储器基地项目(一期)长江未来馆工程位于武汉光谷未来科技城内，场地北侧为三湖街路，东侧为未来三路，西侧为未来二路，南侧为科技五路。工程主体为五层钢筋混凝土框架结构，屋面为钢架屋面，墙体采用九游会外墙帷幕佳堡板，建筑占地面积18868平方米，建筑面积66898平方米。
九游会外墙帷幕佳堡板，以硅、钙物质为主要原材料，以天然多年生针叶乔木植物纤维作为增强材料，经高温高压和整型工序制成的硅酸盐类板材，其特点是绿色环保、不燃、耐水、耐候、隔热、隔声、强度高和性能稳定，面对室外气候的多样性，有明显的抵御能力，遇火时无毒烟、毒气产生，是优良的帷幕墙体材料。
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